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일본의 수출규제로 핵심소재 국산화를 위한 R&D 추진 논의가 계속되는 가운데 관련 국내 등록특허 중 상당수가 외국기업이 보유하고 있는 것으로 조사돼 R&D 추진이 신중히 진행돼야 한다는 주장이 나왔다.
곽대훈 의원(자유한국당대구⋅달서갑)이 특허청으로부터 제출받은 `일본 수출규제 핵심소재 국내특허 현황'에 따르면 포토레지스트 관련 국내에 등록된 특허는 855건, 고순도 불화수소 관련 5건, 투명 폴리이미드 관련 111건이 등록돼 있다고 30일 밝혔다.
이들 특허는 대부분 기업들이 보유하고 있으며 포토레지스트의 경우 일본 신에츠화학공업(299건)이 가장 많이 보유해 국내 등록특허의 26.7%를 점유하고 있다. 이어 후지필름(98건)을 포함한 일본기업 4개가 보유한 특허만 389건으로 전체의 45%에 달했다.
한국 기업은 삼성전자에 납품을 하는 것으로 알려진 동진쎄미켐(64건)과 금호석유화학(30건)이 있으며, 반도체 장비 기업으로 잘 알려진 네덜란드의 ASML(40건)도 특허를 등록해놓고 있다.
등록특허가 5개에 불과한 고순도 불화수소 관련 기술은 언론을 통해 소개된 우리나라의 씨엔비산업과 일본기업 1개, 미국기업 2개가 각각 1개씩 특허를 등록했으며, 투명 폴리이미드 필름 관련 기술은 LG화학과 코오롱인더스트리 등 한국기업이 주도하는 가운데 아사히카세이, 스미토모화학 등 일본기업이 뒤를 이었다.
문제는 이처럼 외국기업이 다수의 특허를 등록해 놓은 상황에서, 이에 대한 분석 없이 섣불리 R&D를 추진했다가 이들 특허에 가로 막히거나 특허분쟁이 발생할 수 있다는 점이다.
때문에 R&D 계획 수립 전 등록특허에 대한 분석을 통해 연구방향을 설정해야 하지만, 일본 수출규제로 다급해진 정부는 당장 연구개발을 추진하겠다는 대책을 내놓은 상태이다. 그러나 특허청에 따르면 특정분야의 특허분석을 위해서는 보통 5~6개월이 소요된다고 밝혔다.
이에 곽대훈의원은 “정부가 롱리스트를 통해 일본 수출규제에 대비한 것처럼 말했지만, 실상은 `가장 아픈 3가지'에 대한 국내특허현황 같은 기초자료도 조사하지 않은 상태였다”며 “정부는 당장 R&D를 추진하겠다며 대책을 내놨지만 관련 기술과 특허에 대한 정확한 조사 없이 추진될 경우 예산낭비가 우려되는 상황이다”라고 말했다.
황보문옥 기자 |
입력 : 2019년 07월 30일
